機器（委託対応）の詳細情報
Detailed Information of Equipment(Job Request)
| 機器情報（対応情報） Equipment and Job Request Information | |
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| 部署 Affiliation | 研究基盤総合センター 応用加速器部門 Applied Accelerator Div., Research Facility Center for Science and Technology |
| カテゴリー Category | 専用測定装置 Limited Purpose Equipment |
| 機器名（委託内容） Equipment (Job Request) | 1MVタンデトロン加速器 1MV Tandetron accelerator |
| メーカー（型式） Supplier (Equipment type) | General Ionex Corporation (GIC), USA GIC製1.0 MV TANDETRON |
仕様・特徴 Specification・Features |
RBS/ERDA、PIXE、イオン照射などの各種装置において利用する加速器。 荷電変換機構を備え、高速イオンビームを発生させるタンデム型静電加速器 ・最大加速電圧：1 MV (加速電圧範囲：0.2 ～ 1 MV) ・加速可能イオン種：H（陽子）からBiまで各種 ・陽子最大エネルギー:2 MeV ・ヘリウムビーム供給可 ・クラスタービーム供給可 ・イオン源：2台 ・ビームライン：4本 ・タンデトロン加速器: Aコース：マイクロPIXE装置 Bコース：クラスタービーム装置 Cコース：汎用実験装置 Dコース：イオンビーム分析装置 |
| 設置場所 Installation site | 研究基盤総合センター 応用加速器部門 Applied Accelerator Div., Research Facility Center for Science and Technology |
| 備考 Remark | 本学研究基盤総合センター応用加速器部門の学外の方の利用（https://www.tac.tsukuba.ac.jp/kyoyo/）で料金や利用法をご確認ください。 |
| 主な研究成果 Research Accomplishment | |
| 相談窓口 Inquiry | 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。 |
| 機器担当者 |
担当者：応用加速器部門 新規利用相談 所属：研究基盤総合センター応用加速器部門 |
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委託単価
University-wide Job Request Rate |
31,900 円 Yen / 日 day |
| 写真 Picture |
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