機器（委託対応）の詳細情報
Detailed Information of Equipment(Job Request)
| 機器情報（対応情報） Equipment and Job Request Information | |
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| 部署 Affiliation | 数理物質系 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM） Institute of Pure and Applied Sciences (ARIM) |
| カテゴリー Category | LSIプロセス装置 LSI Process Equipment |
| 機器名（委託内容） Equipment (Job Request) | (ARIM)反応性エッチング装置 RIE-10NR (ARIM)Reactive Etching System RIE-10NR |
| メーカー（型式） Supplier (Equipment type) | サムコ (RIE-10NR) Samco (RIE-10NR) |
仕様・特徴 Specification・Features |
各種シリコン薄膜を高精度にエッチングするReactive Ion Etching装置 ・8インチウエハ対応 ・高周波出力；300W ・発振周波数；13.56MHz ・ガス；CF4,CHF3,O2 The Reactive Ion Etching apparatus which performs the high precision for various silicon films. ・ Corresponding to wafers of 8 inches in diameter ・ The high frequency output; 300 W ・ Oscillation frequency; 13.56 MHz ・ Gas; CF4, CHF3, O2 |
| 設置場所 Installation site | 共同研究棟C 309室 Cooperative Research Building C 309 |
| 備考 Remark | |
| 主な研究成果 Research Accomplishment | |
| 相談窓口 Inquiry | 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。 |
| 機器担当者 |
担当者：ARIMスタッフ 所属：数理物質系 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM） |
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利用単価
University-wide Shared Use Rate |
単価 A: 930 円 / 30分 |
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委託単価
University-wide Job Request Rate |
7,400 円 Yen / 時間 hr. |
| 写真 Picture |
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