機器（委託対応）の詳細情報
Detailed Information of Equipment(Job Request)
＜利用上の注意事項＞
2020. 6. 24現在、装置利用可能となっております。
直近14日間、平熱が保たれ風邪症状がない方のみ、入室を許可をします。
実験室では、必ずマスクを着用してください。
入室前後で手洗いと手の消毒をしてください。
何卒ご理解いただきますようお願い申し上げます。
| 機器情報（対応情報） Equipment and Job Request Information | |
|---|---|
| 部署 Affiliation | 数理物質系 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM） Institute of Pure and Applied Sciences (ARIM) |
| カテゴリー Category | LSI微細加工露光装置 LSI Fine Pattern Lithography |
| 機器名（委託内容） Equipment (Job Request) | (ARIM)電子線描画装置 ELS-750EX (ARIM)Eectron Beam Lithography ELS-750EX |
| メーカー（型式） Supplier (Equipment type) | ELIONIX (ELS-7500EX) ELIONIX (ELS-7500EX) |
仕様・特徴 Specification・Features |
電子線にてレジストに直接描画することが出来る。 電子銃エミッター：ZrO/W熱電界放射型 加速電圧：5-50 kV 最小線幅：10 nm 試料サイズ：MAX 4インチ ステージ移動範囲：X:100mm以上 Y:110mm以上 重ね合せ精度：40nm フィールド継ぎ精度：40nm Direct patterning on photo-resist film by an electron beam. An electron gun emitter: ZrO/W heat field emission type Acceleration voltage: 5-50 kV The minimum linewidth: 10 nm Sample size: MAX 4 inches Stage sphere range: X: over 100 mm Y: more than 110 mm Superposition precision: 40 nm Field patch precision: 40 nm |
| 設置場所 Installation site | 共同研究棟C 107室 Cooperative Research Building C 107 |
| 備考 Remark | |
| 主な研究成果 Research Accomplishment | |
| 相談窓口 Inquiry | 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。 |
| 機器担当者 |
担当者：ARIMスタッフ 所属：数理物質系 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM） |
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利用単価
University-wide Shared Use Rate |
単価 A: 1,680 円 / 30分 |
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委託単価
University-wide Job Request Rate |
9,000 円 Yen / 時間 hr. |
| 写真 Picture |
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