機器（委託対応）の詳細情報
Detailed Information of Equipment(Job Request)
＜利用上の注意事項＞
2022.1.18今年度中にLL側のTMP交換作業を行います。
日程は未定ですが、よろしくお願いいたします。
2022.1.14
LL側のTMPを立ち上げた時に異音がしたら、スタッフに連絡ください。
2021.3.1 復旧しました。
2021.2.15 循環冷却水故障の為、装置を使用できません。
装置の利用が可能になりましたら、こちらでご案内いたします。
2020.7.17 循環冷却装置の修理が終わりましたので、本日よりご利用できます。
2020. 6. 24
現在、装置利用可能となっております。
直近14日間、平熱が保たれ風邪症状がない方のみ、入室を許可をします。
実験室では、必ずマスクを着用してください。
入室前後で手洗いと手の消毒をしてください。
何卒ご理解いただきますようお願い申し上げます。
| 機器情報（対応情報） Equipment and Job Request Information | |
|---|---|
| 部署 Affiliation | 数理物質系 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM） Faculty of Pure and Applied Sciences (ARIM) |
| カテゴリー Category | LSIプロセス装置 LSI Process Equipment |
| 機器名（委託内容） Equipment (Job Request) | (ARIM)電子線蒸着装置 EB-350T (ARIM)Electron Beam Evaporator EB-350T |
| メーカー（型式） Supplier (Equipment type) | エイコー (EB-350T) Eiko Engineering (EB-350T) |
仕様・特徴 Specification・Features |
高真空中で、電子ビームにより加熱蒸発させ、一定の温度に保持した基板上に堆積させて薄膜を形成する装置。 蒸着室、ロードロック室の2室で構成され、蒸発面に対して基板が±90°回転でき、傾斜蒸着が可能。 到達圧力：1 x 10-6 Pa以下 試料サイズ：MAXΦ 5" 注意: 有機物、生体材料には使用できません。高真空装置ですので、真空装置に不向きな材料は使用できません。 デバイス作製基板のみになります。 Vacuum thin-film deposition system equiped with one electron-beam gun and five deposition source crucibles. Substrates are transfered to the deposition chamber via load-lock chamber, and can be inclined at up to 90 degree for angled deposition. Base pressure: < 1x10-6 Pa Substrate size: max. 5 inches in diameter |
| 設置場所 Installation site | 共同研究棟C 309室 Cooperative Research Building C 309 |
| 備考 Remark | |
| 主な研究成果 Research Accomplishment | |
| 相談窓口 Inquiry | 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。 |
| 機器担当者 |
担当者：ARIMスタッフ 所属：数理物質系 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM） |
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利用単価
University-wide Shared Use Rate |
1,140 円 Yen / 30 分 30 min. |
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委託単価
University-wide Job Request Rate |
5,800 円 Yen / 時間 hr. |
| 写真 Picture |
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