機器（委託対応）の詳細情報
Detailed Information of Equipment(Job Request)
＜利用上の注意事項＞
2024.12.26 チラー不具合の為、使用できません。しばらくお待ちください。
【ターゲット情報】
2024/12/24(火）～ 1/14（火）のターゲット（確定）
No1; Ag, No2; Au, No3; Al, No4; Cr
2025/1/15(水）～ 1/27（月）のターゲット（締め切り）1/10(金)12:00まで
No1; Pt（確定）, No2; Au（確定）, No3; Al, No4; Cr（確定）
※ターゲット交換は月曜日の13:30-17:00を予定しております。
ターゲット変更をご希望の方は、利用希望週の前（金曜日15：00）までにご連絡下さい。
なお、他ユーザーの予約状況や、スタッフの都合により要望にお応え出来ない場合がございますので、ご了承下さい。
※※ターゲット交換を依頼された場合、交換作業にかかる時間分（15:00-17:00の2時間）を依頼者に課金させて頂く事になりました。
ターゲット交換中は装置を専有し、他ユーザーが予約できない状況である事から課金対象とさせて頂いた次第です。
ご理解、ご了承の程、よろしくお願い致します。
Niターゲットは、強磁場用のNo.4のみ装着可能
貴金属ターゲットの最大膜厚は下記の通りです。
Au: Max 200 nm
Pt: Max 150 nm
貴金属ターゲット以外の各ターゲットの最大膜厚200nmまで。
200nm以上成膜する場合は、スタッフに相談すること。
2020. 6. 24
現在、装置利用可能となっております。
直近14日間、平熱が保たれ風邪症状がない方のみ、入室を許可をします。
実験室では、必ずマスクを着用してください。
入室前後で手洗いと手の消毒をしてください。
何卒ご理解いただきますようお願い申し上げます。
| 機器情報（対応情報） Equipment and Job Request Information | |
|---|---|
| 部署 Affiliation | 数理物質系 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM） Institute of Pure and Applied Sciences (ARIM) |
| カテゴリー Category | LSIプロセス装置 LSI Process Equipment |
| 機器名（委託内容） Equipment (Job Request) | (ARIM)スパッタリング装置 CFS-4EP-LL (ARIM)Sputtering System CFS-4EP-LL |
| メーカー（型式） Supplier (Equipment type) | 芝浦メカトロニクス (CFS-4EP-LL) Shibaura Mechatronics (CFS-4EP-LL) |
仕様・特徴 Specification・Features |
ロードロックを備えたサイドスパッタ方式の自動成膜装置。 基板テーブル：φ220 mm 加熱温度：室温～300℃ ターゲット：φ3インチGUN x 4基、用意できる材料はAu, Ag, Cr, Al, Ti, Pt, SiO2 （強磁性体材料用GUN1基含む）逆スパッタ可 使用ガス：Ar, O2, N2ガス 【注意】 有機物、生体材料には使用できません。高真空装置ですので、真空装置に不向きな材料は使用できません。 デバイス作製基板のみになります。 The automatic film formation device of the side sputtering method with the road lock. Board table: φ 220 mm Heating temperature: Room temperature - 300 degrees Celsius Target: φ 3 inches GUN x four, prepared materials are Au, Ag, Cr, Al, Ti, Pt, SiO2 (One of GUNs is for ferromagnetic materials) Reverse sputtering is available Use gas: Ar, O2, N2 |
| 設置場所 Installation site | 共同研究棟C 309室 Cooperative Research Building C 309 |
| 備考 Remark | |
| 主な研究成果 Research Accomplishment | |
| 相談窓口 Inquiry | 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。 |
| 機器担当者 |
担当者：ARIMスタッフ 所属：数理物質系 マテリアル先端リサーチインフラ事業（ARIM） |
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利用単価
University-wide Shared Use Rate |
単価 A: 1,700 円 / 30分 |
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委託単価
University-wide Job Request Rate |
9,000 円 Yen / 時間 hr. |
| 写真 Picture |
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