機器（委託対応）の詳細情報
Detailed Information of Equipment(Job Request)
| 機器情報（対応情報） Equipment and Job Request Information | |
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| 部署 Affiliation | イノベイティブ計測技術開発研究センター R&D Center for Innovative Material Characterization (IMC) |
| カテゴリー Category | 電子顕微鏡 Electron Microscopes |
| 機器名（委託内容） Equipment (Job Request) | (アドバンストSEM)高分解能FEB測長装置(CD-SEM) CS4800 (Advanced SEM)CD-SEM - Advanced CD Measurement SEM CS4800 |
| メーカー（型式） Supplier (Equipment type) | 日立ハイテクノロジーズ （高分解能FEB測長装置CS4800(HITACHI CD-SEM) ) Hitachi High-Technologies （CD-SEM - Advanced CD Measurement SEM CS4800) |
仕様・特徴 Specification・Features |
本装置は、測長SEM（CD-SEM：Critical Dimension-Scanning Electron Microscope）と呼ばれる走査型電子顕微鏡（SEM）の応用装置である。本来は半導体等のウエハ上に形成された微細パターンの寸法計測に用いられる装置で、一般に半導体等の電子デバイスの製造ラインで使用されている。低加速電圧での高分解能観察に適しており、標準で300Vの低加速での試料表面観察が可能である。また連続自動撮像の機能を有するために、大きな視野を高分解能で観察することが出来る。4、8インチウェハ用の計測用装置であるが、小片試料でもウエハに試料を張り付けることにより観察が可能である。 計測再現性: 1nm（3σ) 対応ウェーハサイズ: 直径 100mm, 150mm, 200mm オートローダー :2ポート 設置年月日：2019年3月4日 The Advanced CD Measurement SEM CS4800 provides high-quality SEM imaging, improved measurement precision, and fast, automated operation, designed to improve productivity and operating efficiency of existing manufacturing lines and increase process control capability mainly for semiconductor or electronic devices. The CD-SEM: CS4800 can be configured to handle two different wafer sizes that can be switched by the users using to a wafer-transfer system. Measurement Precision :1 nm (3σ) Wafer size: 100, 150, and 200 millimeters in diameter Auto-loader: 2 ports |
| 設置場所 Installation site | プロジェクト研究棟105室 Project and Research Building 105 |
| 備考 Remark | |
| 主な研究成果 Research Accomplishment | |
| 相談窓口 Inquiry | 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。 |
| 機器担当者 |
担当者：塔村 所属：イノベイティブ計測技術開発研究センター |
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利用単価
University-wide Shared Use Rate |
単価 A: 5,050 円 / 30分 |
| 写真 Picture |
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